简单介绍屏蔽室一些基础知识

根据原理，屏蔽可分为电场屏蔽、电磁场屏蔽和电磁场屏蔽。

1.电场屏蔽

【屏蔽原理】：将电场磁感应当做分布电容间的藕合。

【设计方案关键点】：

a、屏蔽板以挨近受维护物为好，并且屏蔽板的接地装置务必优良！！！

b、屏蔽板的样子对屏蔽效率的高矮有显著危害。全封闭式的金属材料盒，但工程项目中难以保证！

屏蔽板的原料以良导体为主，但对薄厚度没有规定，只要有足够的抗压强度即可。

2.电磁场屏蔽

电磁场屏蔽一般是指交流电或低频电磁场的屏蔽，其实际效果远低于电磁场屏蔽和电磁场屏蔽。

【屏蔽原理】:主要利用高导磁材料具备的低磁电式，对磁通量起到分离作用，使屏蔽体内部的电磁场大幅减弱。

【电磁场屏蔽的原理】：

当电磁波到达屏蔽体表面时，由于气体和金属材料的交界面上的特性阻抗不持续，所以对入射波产生的反射面。这种反射面不规定屏蔽原材料必须有一定的厚度，只规定交界面不连续；

b、未被表层反射面掉而进到屏蔽体的动能，在身体往前散播的全过程中，被屏蔽原材料所衰减系数。也就是说白了的消化吸收；

c、屏蔽身体未衰减系数的剩馀动能，进入原材料的另一表层时，遇到金属材料-气体特性阻抗不持续的界面，产生再反射面，再次回到屏蔽身体。这类反射面在2个金属材料的交界面上很有可能有数次的反射面。

总而言之，电磁屏蔽体对电磁的衰减系数主要是根据电磁波的反射面和电磁波的消化吸收。

【消化吸收损耗】不同的原材料和不同的原材料厚度对电磁波的消化吸收有不同的实际效果。可以根据原材料消化吸收损耗的列表图获得。

【反射面耗损】分成三类：低特性阻抗电磁场、高特性阻抗电场、平面波场。

其中，低特性阻抗电磁场和高特性阻抗电场的反射面消耗线图的计算方式相同，与金属复合材料、频率、放射性物质到屏蔽体的间隔有关。

针对平面波，波阻抗为一参量，而与放射性物质到屏蔽体的间距不相干，在列线图中只需联接金属复合材料和很感兴趣的頻率就能求出这时的反射面耗损值。设计方案要点：

a、采用高导磁原材料，如坡莫合金；

b、提升屏蔽体的薄厚；

之上均是为了更好地减少屏蔽体的磁电式；

c、被屏蔽的物件不必分配在紧贴屏蔽体的部位上，以尽可能减少根据被屏蔽物

体身体的磁通量；

注意屏蔽体的整体设计，凡接缝处、自然通风空间等均极有可能提升屏蔽体的磁电式。

而减少屏蔽实际效果。

e.磁场屏蔽可以选择两层磁屏蔽体的结构。

对要屏蔽外界磁场的，则屏蔽体的表层采用不容易饱和状态的原材料，如硅钢片；而内

部分可以使用极易饱和的高导磁原料，如坡莫合金。

相反，假如要屏蔽內部磁场时，则原材料的排序顺序要到回来。

安装内外双层屏蔽体时，应注意彼此之间的绝缘层。当沒有接地装置规定时，能用绝

缘原材料做支撑点件。如要接地装置时，可采用非磁铁原材料（如铜、铝）做支撑点件。

3.电磁场屏蔽

电磁场屏蔽是防止电磁场在屏蔽室内空间传播的一种对策。